7月17日消息，光刻機龍頭ASML現(xiàn)在宣布，全球首臺最強光刻機第二代High NA EUV已經(jīng)出貨。
按照官方的說法，EXE:5200是ASML對現(xiàn)有初代High NA EUV光刻機EXE:5000的改進版本，首臺買家是英特爾，一臺售價近30億元。
相比初代High NA EUV光刻機EXE:5000來說，EXE:5200擁有更高的晶圓吞吐量（EXE:5000為每小時185片以上），可以更好的為2nm工藝量產(chǎn)做支撐。
TWINSCAN EXE:5000和EXE:5200均提供了0.55數(shù)值孔徑，比前代EUV光刻機0.33數(shù)值孔徑透鏡的精度提高了，可以為更小的晶體管功能提供更高分辨率的模式。
EUV 0.55 NA的設(shè)計旨在從2025年開始實現(xiàn)多個未來節(jié)點，這是業(yè)內(nèi)首次部署，隨后將采用類似密度的內(nèi)存技術(shù)。
需要注意的是，這種高精尖的光刻機，ASML是不可能賣給中國廠商的，這不是錢的問題，而是其他因素。
